Уже много лет США запрещают экспорт EUV-сканеров (g+) в Китайскую Народную Республику. Поэтому страна работает над собственными альтернативами. Насколько далеко продвинулись эти усилия, однако, неясно. В частности, об этом в рамках выставки Semicon Taiwan финансовый канал Bloomberg (открывается в новом окне) расспросил Франка Рормунда, генерального директора Zeiss SMT (открывается в новом окне) (Semiconductor Manufacturing Technology). Его компания, среди прочего, создает оптику для EUV-сканеров ASML.
В интервью Рормунд назвал реалистичной оценку аналитиков банка UBS. Проанализировав патенты, они пришли к выводу (открывается в новом окне), что разработки в области EUV в Китае в настоящее время находятся примерно на том уровне, на котором ASML была в 2004 году — за 15 лет до начала серийного производства EUV-сканеров. Главной проблемой аналитики считают источник света. Однако Рормунд отметил, что о разработках в КНР практически ничего не известно.
Как и генеральный директор ASML, Рормунд критически относится к ужесточению экспортных ограничений. Они лишь приведут к тому, что Китай активизирует усилия по созданию собственных альтернатив. Также он выразил недовольство тем, что Zeiss SMT используется как рычаг в геополитических конфликтах.
Широкое применение High-NA-EUV Рормунд ожидает к концу десятилетия, Intel уже использует свои сканеры в серийном производстве Intel 18A (открывается в новом окне).
В DUV-технологиях с иммерсией Китай также сильно отстает
Рормунд также считает, что Китай значительно отстает и в DUV-сканерах. Хотя он знает не больше того, что недавно сообщалось в СМИ о первом китайском иммерсионном DUV-сканере.
Однако он полагает, что у признанных производителей сохраняется большое преимущество в производительности, продуктивности, удобстве использования и обслуживаемости. Рормунд также указывает на то, что над DUV в КНР велись разработки в течение длительного времени. По сравнению с EUV даже иммерсионная технология значительно проще. Ведь для EUV всё — от источника света и оптики до материала масок — приходится разрабатывать с нуля.
Разработки в Китае позволяют предположить, что EUV потребует времени
То, что в КНР ведутся работы над собственными EUV-сканерами, не оспаривается. Это публично подтверждается патентными заявками и публикациями исследователей. Кроме того, постоянно циркулируют слухи, например, что Huawei разработала EUV-сканер. Недавно Министерство торговли США заявило, что Китай получил доступ к EUV-сканеру ASML, что производитель опроверг (открывается в новом окне).
С другой стороны, события в области китайского полупроводникового производства также указывают на то, что скорое появление EUV-сканеров не предвидится: Huawei делает ставку на Logic Folding, используя стопку из до четырех чипов. Для этого были разработаны совершенно новое EDA-программное обеспечение и новые подходы к проектированию и производству. Само по себе стекирование уже является сложной задачей. Эти усилия было бы трудно оправдать, если бы в ближайшее время благодаря EUV стали возможны более высокие плотности транзисторов.