Иммерсионные литографические установки с аргон-фторидными лазерами являются основой самых современных полупроводниковых процессов в Китайской Народной Республике. Соответственно, ужесточение экспортных правил в соответствии с Match Act может нанести тяжелый удар по полупроводниковой отрасли страны, особенно по ее крупнейшему производителю ASML. Поэтому китайские компании уже много лет работают над созданием собственных DUV-иммерсионных литографов. Как сообщает платформа The Information (откроется в новом окне), первая модель уже готова к серийному производству.
Согласно отчету, в 2026 году планируется построить пять литографов, а к 2027 году производство планируется расширить примерно до 20 единиц. Для сравнения: ASML в настоящее время может производить около 130 DUV-иммерсионных литографов в год (PDF) (откроется в новом окне). The Information не раскрывает, какая именно компания производит эту машину. В сентябре 2026 года сообщалось о ранее неизвестной компании Yuliangsheng, которая разработала рабочий 28-нм литограф.
Судя по описанию The Information, речь, вероятно, идет именно об этой системе. Однако в разработке принимали участие инженеры различных производителей оборудования. Большинство компонентов должно производиться китайскими производителями, но критические детали будут импортироваться из Японии. Что касается фоторезиста, китайские производители полупроводников по-прежнему зависят от японских поставщиков, таких как Shin-Etsu.
Не полноценная замена ASML
По данным The Information, первые китайские иммерсионные литографы будут поставлены компаниям SMIC и Huahong, возможно, для 6/7-нм логических процессов, а также производителю флэш-памяти YMTC.
Однако им сначала придется интегрировать эти машины в свои производственные процессы, протестировать надежность и совместимость с другим оборудованием. Это займет как минимум несколько месяцев, и остается открытым вопрос, можно ли будет достичь такого же процента выхода годных чипов, как на машинах ASML. В прошлом было доказано, что высокая доля китайского оборудования снижает выход годных из-за отсутствия согласованности. Не случайно в последние годы китайские производители полупроводников закупили сотни DUV-иммерсионных литографов у ASML.
Также сомнительно, можно ли использовать китайский литограф для самых критических слоев. Если это система Yuliangsheng или система с сопоставимой производительностью, то ее разрешающая способность все еще будет уступать улучшенной версии ASML NXT:1950i (откроется в новом окне), системе, которая была первоначально представлена в 2008 году (откроется в новом окне). Пропускная способность, то есть количество пластин, экспонируемых в час, вероятно, ниже, чем у систем ASML; кроме того, сообщается, что проблемы с поставщиками задержали начало производства.
The Information также пишет, что китайская машина менее производительна, чем модели ASML, и поэтому не является серьезным конкурентом. Тем не менее, курс акций ASML заметно снизился. По данным Reuters (откроется в новом окне), аналогичная ситуация наблюдалась и с акциями широкого круга поставщиков и производителей полупроводников.